替代EUV光刻机光源,日本方案详解 1.引言众所周知,根据摩尔定律,每块芯片的晶体管数量几乎每两年翻一番。光刻分辨率R取决于光源波长λ、数值孔径NA和工艺参数 k1,如下所示、为了保持摩尔定律的有...