受生成式AI、高性能计算、5G、自动驾驶等新兴应用的强劲需求牵引，芯片制造工艺持续向微缩化方向演进。例如，半导体IP龙头Arm正积极推进3纳米物理设计技术，AI...

1.引言众所周知，根据摩尔定律，每块芯片的晶体管数量几乎每两年翻一番。光刻分辨率R取决于光源波长λ、数值孔径NA和工艺参数 k1，如下所示、为了保持摩尔定律的有...

编者按Joseph Braat教授，荷兰光学工程师、科学家，荷兰皇家科学与艺术学院院士。Joseph Braat教授以其在光学成像领域的贡献为人尊敬，每每与其交...

6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机，预计可将半导体...

这两天，围绕着光刻机有很多新闻。一则是ASML表示，又卖出了一台下一代的High NA EUV光刻机，这个数值孔径为0.55的新设备被认为是生产1nm以下芯片的...

全球光刻机巨头阿斯麦，业绩也撑不住了！4月17日，光刻机巨头阿斯麦发布了2024年第一季度财报。财报显示，公司一季度销售额为52.9亿欧元，同比下降22%，环比...

4月19日消息，今天芯片巨头英特尔宣布，已开始组装阿斯麦（ASML）的高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻机，并称这是其超越竞争对手的重要一步。去...